在工業清洗中亞氨基二琥珀酸四鈉的作用

亞氨基二琥珀酸四鈉（IDS）是一種新型的氨基多羧酸螯合劑，有著很強的螯合過渡金屬離子的能力，與EDTA、DTPA和NTA等同屬氨基多羧酸類螯合劑，具有無磷、無毒、無公害和易生物降解的特性。在工業清洗領域也有著不少的應用場景。

1.金屬清洗劑：
亞氨基二琥珀酸四鈉可用于清洗金屬表面，去除其表面的氧化層和污垢，提高金屬表面的清潔度和光亮度。IDS還能起到緩蝕和防銹的作用，延長金屬零件的使用壽命。和表面活性劑一起使用，便可取得較好的效果，用于去除金屬管道網絡中的鐵銹及硫化鐵垢，可用于鍋爐、天然氣管道等大型設備清洗。

2.拋光液：
化學機械拋光（CMP）是目前少數能夠實現全局平坦化、提高芯片集成密度的制程操作，小型化半導體芯片大多由數層銅布線和納米級間距構成的，通過CMP技術可以得到無缺陷的、原子化銅表面。拋光液的主要成分包括研磨顆粒、氧化劑、絡合劑、抑制劑及其他用于改善應用效果的添加劑。亞氨基二琥珀酸四鈉就可以用作拋光液的絡合劑，可以鰲合金屬離子，加快氧化物的溶解絡合劑能夠與金屬離子絡合，形成穩定且能溶于溶液中的絡合物，達到加快金屬溶解的效果，從而使拋光速率提高。
在銅化學機械拋光研究中，發現亞氨基二琥珀酸四鈉（IDS-4Na）的加入能夠使Cu表面天然氧化膜破裂，促進活性Cu的溶解，能夠降低Cu腐蝕電位，增加腐蝕電流密度，加速其腐蝕。但IDS與Cu絡合物水溶性一般，隨時間增加，絡合反應逐漸達到飽和。通過Cu靜態蝕刻和化學機械拋光實驗探究IDS和BTA對Cu靜態下緩蝕率及動態下去除速率的影響，可得到IDS可提高Cu靜態緩蝕率及動態去除率的結論。
在鈷化學機械拋光研究中，IDS同樣能降低Co腐蝕電位，極化曲線結果顯示Co的腐蝕電流密度也得到了提高；EIS測試則顯示出Co表面形成的鈍化膜致密性隨著IDS含量的增加而降低。并通過靜態蝕刻和CMP實驗驗證出IDS能明顯提高Co靜態腐蝕速率和動態去除速率。

3.助洗劑：
同其他類型的洗滌劑一樣，助洗劑在機洗餐具用洗滌劑中也必不可少，助洗劑包括螯合劑和分散劑。螯合劑的作用是與金屬離子結合，使水軟化，亞氨基二琥珀酸四鈉（IDS-4Na）就可作為洗滌劑中的螯合劑。同時添加分散劑如聚丙烯酸鈉共聚物等，可以將已經洗掉的污垢分散在水中，防止再沉積，還可以抑制結垢，阻止碳酸鈣結晶生長。螯合劑、分散劑和低泡表面活性劑配合使用，可以提高餐具洗滌后的潔凈度，避免污垢在餐具表面和洗碗機內壁形成白色斑點或者不透明膜。

隨著社會環保意識的增強，人們對洗滌劑原料的綠色化提出了更高的需求。傳統螯合劑三聚磷酸鈉會造成湖泊江河的富營養化，已經逐漸被棄用，而EDTA也被認為對環境不友好。未來對環境和人體友好的綠色螯合劑將會受到歡迎，亞氨基二琥珀酸四鈉作為新型的氨基酸基螯合劑，有很強的螯合金屬離子的能力和良好的溶解性，易生物降解且符合綠色化學的發展要求，將在清洗劑領域中得到越來越多的應用。